光回折層を有するカード、及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金山聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-139504
公開番号（公開出願番号）：特開2003-326824
出願日： 2002年05月15日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：

【要約】【課題】既存設備で安価に、大量生産ができ、意匠性が高く、かつ、セキュリティ性の高い光回折層を有するカード、及びその製造方法を提供する。【解決手段】(a)転写基材、剥離層、光回折層、透明反射層、印刷法で部分的に設けられた高輝度インキ反射層、及び必要に応じて接着層を順次積層した転写箔を作成する工程、(b)該転写箔を、大判又は長尺のウェブ状態のカード基材へラミネート転写する工程、(c)転写基材が剥離されて露出した剥離層上へ、プライマ層を介して半硬化状態のUVアンカー層を形成する工程、(d)該半硬化状態のUVアンカー層上へ、オフセット印刷法で印刷層を形成し、該UVアンカー層とオフセット印刷層を同時に硬化する工程、(e)カードサイズへ打抜いてカードとする工程、からなる製造方法、及び光回折層を有するカードを特徴とする。

請求項（抜粋）：

(a)転写基材、剥離層、光回折層、透明反射層、高輝度インキ反射層、及び必要に応じて接着層を順次積層してあり、前記高輝度インキ反射層が少なくとも有機脂肪酸、メチルシリルイソシアネート、またはセルロース誘導体で表面処理した金属蒸着膜細片を含有し、かつ、印刷法で部分的に設けられている転写箔を作成する工程、(b)該転写箔を、複数のカードを面付けした大判状態、又は長尺のウェブ状態のカード基材の、少なくとも一方の面へ全面転写し、転写基材のみを剥離する工程、(c)転写基材が剥離されて露出した剥離層上へ、プライマ層を介して、半硬化状態のUVアンカー層を形成する工程、(d)該半硬化状態のUVアンカー層上へ、オフセット印刷法で印刷層を形成し、該UVアンカー層とオフセット印刷層を同時に硬化する工程、(e)カードサイズへ打抜いてカードとする工程、からなることを特徴とする光回折層を有するカードの製造方法。

IPC (8件)：

B41M 3/14 , B32B 7/02 103 , B32B 27/00 , B42D 15/10 501 , B42D 15/10 , G02B 5/18 , G03H 1/18 , G06K 19/06

FI (8件)：

B41M 3/14 , B32B 7/02 103 , B32B 27/00 G , B42D 15/10 501 G , B42D 15/10 501 K , G02B 5/18 , G03H 1/18 , G06K 19/00 D

Fターム (51件)：

2C005HA06 , 2C005HA17 , 2C005HA19 , 2C005JA19 , 2C005JB09 , 2C005KA48 , 2H049AA25 , 2H049AA31 , 2H049AA64 , 2H113AA06 , 2H113BA05 , 2H113CA39 , 2H113CA46 , 2K008AA00 , 2K008AA13 , 2K008FF11 , 2K008GG05 , 2K008HH18 , 4F100AB01E , 4F100AH02E , 4F100AH03E , 4F100AJ06E , 4F100AK07 , 4F100AK15 , 4F100AK17 , 4F100AK42 , 4F100AK49 , 4F100AK52 , 4F100AR00B , 4F100AR00C , 4F100AR00D , 4F100AR00E , 4F100AT00A , 4F100BA05 , 4F100BA07 , 4F100CB00E , 4F100DE01E , 4F100EC04A , 4F100EH66E , 4F100GB71 , 4F100JL14B , 4F100JN01D , 4F100JN06D , 4F100JN06E , 4F100JN30C , 5B035AA04 , 5B035AA13 , 5B035BA03 , 5B035BA05 , 5B035BB03 , 5B035BB05

引用特許：

出願人引用 (7件)

ホログラム転写箔
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-349261 出願人：大日本印刷株式会社
混成型ホログラムとその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-250753 出願人：大日本印刷株式会社
メタリックホログラム
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-276361 出願人：大日本インキ化学工業株式会社

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