特許

J-GLOBAL ID：200903029667568165

ガラス成形用型およびその製造方法

発明者： 三宅 正二郎 ,  村川 正夫 ,  渡部 修一 ,  宇野 賢 ,  熊谷 泰
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社 ,  ナノテック株式会社
代理人 (1件)： 後藤 洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-254102
公開番号（公開出願番号）：特開平7-109128
出願日： 1993年10月12日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：

【要約】【目的】 多数回にも及ぶプレス成形によってもガラスの融着が起こらず、所望のガラス成形体を得ること。【構成】 炭化ケイ素焼結体1にCVD法により炭化ケイ素膜2を形成して基盤を得、この炭化ケイ素膜2上にイオンプレーティング法により炭素膜3を形成した後、不活性ガスのイオン注入処理を行うことによって、炭化ケイ素膜2の炭素膜3との界面に非晶質層4を形成する。

請求項（抜粋）：

プリフォームをプレス成形することによりガラス成形体を得るために使用されるガラス成形用型に於いて、表面に得ようとする前記ガラス成形体の最終面形状が形成された基盤と、該基盤の表面上に形成された炭素膜と、前記基盤と前記炭素膜との界面に、15〜200keVの加速電圧で加速された不活性ガスのイオン注入により形成された非晶質層とを含むことを特徴とするガラス成形用型。

IPC (2件)：

C03B 11/00 ,  C04B 41/89

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ガラス光学素子成形金型とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-315075   出願人：京セラ株式会社
• 特開平2-199036
  
• 特開平3-257031
  
• 特開平3-088731