特許

J-GLOBAL ID：200903029672349242

基板洗浄方法およびそれに使用する基板洗浄装置

発明者： 大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-176721
公開番号（公開出願番号）：特開平9-001093
出願日： 1995年06月19日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：

【要約】【目的】 静電気を除去しての洗浄と気泡の破壊時の力を利用しての洗浄とを短時間で行えるようにする。【構成】 冷却装置20により低温化した純水を溶解装置12に供給し、その溶解装置12に導入管17を通じて炭酸ガスを供給して、純水中に炭酸ガスを高濃度に溶解し、その炭酸ガスを溶解した純水を基板Wに供給して基板Wの表面を洗浄する。

請求項（抜粋）：

洗浄液に炭酸ガスを溶解し、溶解炭酸ガスを気泡化して基板に供給することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (4件)：

B08B 3/10 ,  C11D 7/04 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (4件)：

B08B 3/10 Z ,  C11D 7/04 ,  H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/304 341 M

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭60-000876
  
• 洗浄方法及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-150846   出願人：アジア化工機株式会社
• 脱スケール方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-314097   出願人：住友金属工業株式会社