特許
J-GLOBAL ID：200903029694562730
フォトマスクおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩佐 義幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-033037
公開番号（公開出願番号）：特開平6-250375
出願日： 1993年02月23日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：
【要約】【目的】 孤立パターンに対して解像度を向上させる効果を持ち、作成が簡便かつ耐酸性,耐光性に優れたフォトマスクおよびその製造方法を提供する。【構成】 CrとSiO2 でできた複合ターゲットをガラス基板1上に酸素を混合したガスを用いてスパッタする。するとガラス基板上に酸化クロムと酸化ケイ素の混合物よりなる薄膜2が形成される。複合ターゲットにおけるCrとSiO2 の面積比を変えることにより薄膜の組成が変化し、これにより薄膜の透過率を調節することができる。
請求項（抜粋）：
透明基板あるいはエッチングストッパ膜が付着した透明基板上に被露光パターンを半透明な位相部材を用いて設けたフォトマスクにおいて、前記位相部材が酸化クロムと酸化ケイ素の混合物より構成されることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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