加硫ゴム成形品の表面処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-101089
公開番号（公開出願番号）：特開2000-290410
出願日： 1999年04月08日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：

【要約】【課題】加硫ゴム成形品に多官能性不飽和化合物などを付着させることのない簡単な放射線照射方法で、成形品表面における低摩擦化および非粘着化を達成せしめる加硫ゴム成形品の表面処理方法を提供する。【解決手段】加硫ゴム成形品を照射時酸素濃度が約10〜500ppm(容積)の雰囲気中で、加速電圧約300kV以下の電子線を照射して加硫ゴム成形品の表面を処理する。

請求項（抜粋）：

加硫ゴム成形品を照射時酸素濃度が10〜500ppm(容積)の雰囲気中で、加速電圧300kV以下の電子線を照射することを特徴とする加硫ゴム成形品の表面処理方法。

IPC (2件)：

C08J 7/00 305 , C08J 7/00 CEQ

FI (2件)：

C08J 7/00 305 , C08J 7/00 CEQ

Fターム (7件)：

4F073AA07 , 4F073BA04 , 4F073BA15 , 4F073CA42 , 4F073CA62 , 4F073HA12 , 4F073HA15

引用特許：

出願人引用 (9件)

特開昭61-213229
特開昭60-056536
特開平1-240536

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