特許
J-GLOBAL ID：200903029783050521

光触媒の製造方法及び光触媒

発明者：
吉川 雅人

吉川 雅人 について

, 
大野 信吾

大野 信吾 について


出願人/特許権者：
株式会社ブリヂストン

株式会社ブリヂストン について


代理人 (1件)： 江藤 聡明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-322313
公開番号（公開出願番号）：特開2003-117404
出願日： 2001年10月19日
公開日（公表日）： 2003年04月22日
要約：
【要約】【課題】 低温で簡易に且つ超高速で酸化チタン膜を含む光触媒を得ることができる光触媒の製造方法及び高い光触媒活性を有する光触媒を提供すること。【解決手段】 基板上に、ターゲットとしてチタン又は酸化チタンを用いて、デュアルカソード方式マグネトロンスパッタリング法でスパッタリングすることにより、酸化チタン膜を形成することを特徴とする光触媒の製造方法及びこの方法により得られる光触媒。
請求項（抜粋）：
基板上に、ターゲットとしてチタン又は酸化チタンを用いて、デュアルカソード方式マグネトロンスパッタリング法にてスパッタリングすることにより、酸化チタン膜を形成することを特徴とする光触媒の製造方法。
IPC (8件)：
B01J 35/02 ,  A61L 9/00 ,  B01J 19/00 ,  B01J 21/06 ,  B01J 37/02 301 ,  C01G 23/04 ,  C03C 17/245 ,  C23C 14/08
FI (8件)：
B01J 35/02 J ,  A61L 9/00 C ,  B01J 19/00 L ,  B01J 21/06 M ,  B01J 37/02 301 P ,  C01G 23/04 C ,  C03C 17/245 A ,  C23C 14/08 E
Fターム (68件)：
4C080AA07 ,  4C080BB02 ,  4C080BB05 ,  4C080CC01 ,  4C080HH01 ,  4C080JJ01 ,  4C080KK01 ,  4C080LL01 ,  4C080MM02 ,  4C080QQ03 ,  4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CB08 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G047CD07 ,  4G059AA01 ,  4G059AC22 ,  4G059EA04 ,  4G059EB04 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CA01 ,  4G069CA05 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA17 ,  4G069DA06 ,  4G069EA11 ,  4G069EB15X ,  4G069EB15Y ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069FA01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB02 ,  4G069FB03 ,  4G069FB29 ,  4G069FB40 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC02 ,  4G075CA02 ,  4G075CA62 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FC11 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA48 ,  4K029BB07 ,  4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029DC05 ,  4K029DC16 ,  4K029DC39 ,  4K029EA01 ,  4K029FA07 ,  4K029GA01
引用特許：
審査官引用 (4件)
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