特許
J-GLOBAL ID:200903029803326537

疎水化コロイダルシリカの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 樋口 武
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-024767
公開番号(公開出願番号):特開2001-213617
出願日: 2000年01月28日
公開日(公表日): 2001年08月07日
要約:
【要約】【課題】有機溶媒、有機樹脂及びこれらを含有する塗料等に対する分散性が良好であるとともに疎水性有機溶媒を主成分とする媒体中において長期間安定であって、かつ金属イオン不純物の含有量の少ないコロイダルシリカを、温和な条件で製造することが可能な方法を提供する。【解決手段】親水性有機溶媒を主溶媒とするコロイダルシリカに、分子中に1以上のアルキル基を有する加水分解性ケイ素化合物又はその加水分解物を含有する疎水化剤を混合して、親水性有機溶媒を主溶媒とする第1の疎水化コロイダルシリカを調製し、次いで、この第1の疎水化コロイダルシリカを限外濾過膜を用いて溶媒置換して、疎水性有機溶媒を主溶媒とする第2の疎水化コロイダルシリカを調製する。
請求項(抜粋):
親水性有機溶媒を主溶媒とするコロイダルシリカに、分子中に1以上のアルキル基を有する加水分解性ケイ素化合物又はその加水分解物を含有する疎水化剤を混合して、親水性有機溶媒を主溶媒とする第1の疎水化コロイダルシリカを調製し、この第1の疎水化コロイダルシリカを限外濾過膜を用いて溶媒置換して、疎水性有機溶媒を主溶媒とする第2の疎水化コロイダルシリカを調製することを特徴とする疎水化コロイダルシリカの製造方法。
Fターム (16件):
4G072AA28 ,  4G072CC05 ,  4G072CC13 ,  4G072GG03 ,  4G072HH29 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ47 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072LL15 ,  4G072MM02 ,  4G072MM22 ,  4G072PP11 ,  4G072PP14 ,  4G072QQ07 ,  4G072UU30
引用特許:
審査官引用 (8件)
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