処理装置及び処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中本菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-219464
公開番号（公開出願番号）：特開平7-115060
出願日： 1994年08月22日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：

【要約】【目的】少ない洗浄液使用量で不要な塗布膜を除去できると共に、円形以外の被処理体であってもその周縁部の塗布膜を有効に除去する処理装置及び処理方法を提供する。【構成】ウエハWの周縁近傍下面へ向けて所定の角度θ1で洗浄液Lを噴射する洗浄ノズル41と、ウエハWの上面上方から所定角度θ2で周縁部に吸引口43aを臨ませて設けられた排出管43とを具備したことを特徴とする。洗浄ノズル41からの洗浄液Lは、噴射の勢いとウエハWの回転による遠心力とによって周縁部下面の塗布膜除去に供され、更に周縁を通って上面側へ回り込み、上面周縁部の塗布膜除去に供される。洗浄液Lの粘性を考慮してその流量乃至吸引量を適宜調節することにより除去幅を調節することができる。

請求項（抜粋）：

被処理体の上面に処理液を塗布する処理装置において、上記被処理体の下面の周縁部へ向けて所定の角度で洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、上記被処理体の上面方向から所定の角度で上記洗浄液を回収する回収手段とを具備することを特徴とする処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/16 501 , H01L 21/304 341

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開昭62-224931
特開昭62-224931
基板端縁洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-357131 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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