特許
J-GLOBAL ID：200903029822442580
有機EL素子
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-218169
公開番号（公開出願番号）：特開平11-054274
出願日： 1997年07月29日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：
【要約】【課題】微細パターンに適した構造の有機EL素子を提供する。【解決手段】 透明配線膜61が形成されたガラス基板60表面に、真空蒸着法によって有機レジスト膜62を形成し、紫外光による露光と加熱による現像を行い、レジストパターン63を形成した後、EL薄膜65A、65Bと、金属配線膜66A、66Bを形成する。レジストパターン63の表面の幅は底面の幅よりも広いので、側面には金属蒸気は付着せず、金属配線膜66A、66B間が分離・絶縁される。有機溶剤やプラズマを用いたレジスト膜の現像、除去工程が不要なので、透明配線膜61やEL薄膜65A、65Bが劣化せず、特性のよい有機EL素子3を得ることができる。
請求項（抜粋）：
互いに絶縁された透明配線膜を複数本有するガラス基板上に、有機薄膜から成るEL薄膜が形成され、前記EL薄膜表面に、互いに絶縁された金属配線膜が複数本形成され、前記透明配線膜と前記金属配線膜との間に電圧が印加されると、その交差部分に位置する前記EL薄膜が発光するように構成された有機EL素子であって、真空蒸着法によって形成された有機電気絶縁膜にガラスマスクを透過した紫外光が照射されて重合反応が行われた後、加熱によって未反応の有機電気絶縁膜が蒸発除去され、底部の幅よりも上部の幅が広い電気絶縁膜パターンが形成され、前記金属配線膜は、前記電気絶縁膜パターン上とその間の開口部内に形成され、前記電気絶縁膜パターンが形成する段差によって互いに絶縁されたことを特徴とする有機EL素子。
IPC (6件)：
H05B 33/10
, C23C 14/04
, C23C 14/12
, C23C 14/24
, H05B 33/22
, H05B 33/26
H05B 33/10
, C23C 14/04 A
, C23C 14/12
, C23C 14/24 G
, H05B 33/22
, H05B 33/26
