特許
J-GLOBAL ID：200903029826492957
ガスフィルタ
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
波多野 久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-101313
公開番号（公開出願番号）：特開2000-288320
出願日： 1999年04月08日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：
【要約】【課題】デバイス製造装置や製造されるデバイスに悪影響を与えず、デバイス製造装置を高真空にでき、ケーシング部材の腐食がなく、シール性、量産性に優れたガスフィルタを提供する。【解決手段】ガス導入口2iとガス排出口2oを有するケーシング2と、このケーシング2のガス導入口2iとガス排出口2o間に内装されたフィルタ本体3と、このフィルタ本体3の端部3a、3bとケーシング2間に設けられたガスケット4、6とを有するガスフィルタにおいて、このガスケット4、6は樹脂製基材7と、この基材7がケーシング2内の大気成分と接触するのを防ぐために設けられた遮蔽層8とを有し、この遮蔽層8は基材7の表面または表層近傍に金属または金属酸化物を用いて形成されたガスフィルタ。
請求項（抜粋）：
ガス導入口とガス排出口を有するケーシングと、このケーシングのガス導入口とガス排出口間に内装されたフィルタ本体と、このフィルタ本体の端部とケーシング間に設けられたガスケットとを有するガスフィルタにおいて、このガスケットは樹脂製基材と、この基材がケーシング内の大気成分と接触するのを防ぐために設けられた遮蔽層とを有し、この遮蔽層は基材の表面または表層近傍に金属または金属酸化物を用いて形成されたことを特徴とするガスフィルタ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B01D 39/00 B
, B01D 39/20 D
4D019AA01
, 4D019BA06
, 4D019BB07
, 4D019CB01
, 4D019CB02
