特許
J-GLOBAL ID：200903029908548012

有機EL素子製造に用いる真空蒸着用多面付けマスク装置

発明者：
土屋 輝直

土屋 輝直 について

, 
坂田 卓也

坂田 卓也 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 乗松 恭三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-255233
公開番号（公開出願番号）：特開2003-068454
出願日： 2001年08月24日
公開日（公表日）： 2003年03月07日
要約：
【要約】【課題】 有機EL素子製造における真空蒸着を生産性良く且つ高精細パターニングで実施可能なマスク装置を提供する。【解決手段】 蒸着範囲を規制するウインドウ18を複数個備えた第一金属マスクを兼ねるベースプレート12の上に、多数の微細なスリットを微小間隔で平行に配列した構成のすだれ部13Aを備えた第二金属マスク13を配置し、その一端をマスククランプ20でベースプレート12に固定し、他端をスライダ23に固定し、そのスライダ23に圧縮コイルバネ30でばね力を付与することで第二金属マスクのすだれ部13Aに張力を付与し、スリットを真っ直ぐな状態で且つ所定のピッチに維持する構成とする。この第二金属マスク13の上に基板17を配して蒸着を行うことで、基板に高精細なパターンを多面付けで形成することができる。
請求項（抜粋）：
有機EL素子製造における真空蒸着工程で用いる真空蒸着用多面付けマスク装置であって、蒸着範囲を規制するウインドウを複数個備えた第一金属マスクを兼ねるベースプレートと、前記複数のウインドウを覆う大きさの領域に多数の微細なスリットを微小間隔で平行に配列した構成のすだれ部とその両端の保持部とを備えた第二金属マスクと、該第二金属マスクを、前記すだれ部を前記ウインドウの上に位置させ且つ前記スリットの長手方向に引っ張った状態で前記ベースプレートの上に位置させるマスク引張保持手段を有する真空蒸着用多面付けマスク装置。
IPC (5件)：
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/14
FI (5件)：
H05B 33/10 ,  C23C 14/04 A ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/14 A
Fターム (29件)：
3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04 ,  5C094AA05 ,  5C094AA43 ,  5C094AA46 ,  5C094AA48 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094DA13 ,  5C094FA01 ,  5C094FB01 ,  5C094FB20 ,  5C094GB10 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435HH01 ,  5G435HH20 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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