特許

J-GLOBAL ID：200903029919053660

酸化チタン膜の作製方法

発明者： 垰田 博史 ,  加藤 俊作 ,  加藤 薫一
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  株式会社加藤機械製作所 ,  垰田 博史 ,  加藤 俊作
代理人 (2件)： 後藤 憲秋 (外3名) ,  後藤 憲秋 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-190514
公開番号（公開出願番号）：特開平11-021127
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：

【要約】【課題】 非耐熱性の材料の表面に酸化チタン膜を簡単かつ迅速に作製する方法を提供する。【解決手段】 基材に酸化チタンゾルをコーティングした後、そのままで、あるいは、乾燥してから、マイクロ波を照射する。

請求項（抜粋）：

基材に酸化チタンゾルをコーティングした後、そのままで、あるいは、乾燥してから、マイクロ波を照射することを特徴とする酸化チタン膜の作製方法。

IPC (3件)：

C01G 23/04 ,  B01J 19/08 ,  C03C 17/25

FI (3件)：

C01G 23/04 C ,  B01J 19/08 F ,  C03C 17/25 A

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 薄膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-355384   出願人：株式会社ケミトロニクス
• 金属部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-232309   出願人：株式会社日立製作所
• 特表平2-500268
  
• 光高透過性酸化チタン光触媒およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-147436   出願人：株式会社河合楽器製作所
• 特開昭58-167428
  

審査官引用 (1件)

• 薄膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-355384   出願人：株式会社ケミトロニクス