特許
J-GLOBAL ID：200903029933062981
RF・ECRプラズマエッチング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
舘野 千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-029613
公開番号（公開出願番号）：特開平6-224155
出願日： 1993年01月27日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：
【要約】【目的】 ECRプラズマ処理装置の小型化および大口径化を実現する。【構成】 アンテナを用いて導入した100〜500MHzの高周波を用いて電子サイクロトロン共鳴を起こさせ、ECR共鳴用磁場は永久磁石を用いる。
請求項（抜粋）：
基板のエッチングを行うプラズマ生成室と、該プラズマ生成室内に放電用の高周波を導入する同軸ケーブルおよびそれに接続したアンテナと、前記プラズマ生成室内に電場と直交する磁場を印加するプラズマ生成用の永久磁石とを備え、プラズマ生成室内で高周波によって発生する電場と該電場と直交するプラズマ生成用の磁場とによっておこる電子サイクロトロン共鳴現象を利用して処理ガスをプラズマ化し、該プラズマを設置された基板に照射して基板のエッチングを行うRF・ECRプラズマエッチング装置であって、高周波周波数を100〜500MHzとすることを特徴とするRF・ECRプラズマエッチング装置。
IPC (5件)：
H01L 21/302
, C23F 4/00
, H05H 1/46
, G01N 24/14
, G01R 33/64
