特許

J-GLOBAL ID：200903029959157859

浸漬フォトリソグラフィシステム及びマイクロチャネルノズルを使用する方法

発明者： ハーマン フォーゲル ,  クラウス シーモン ,  アントニウス テオドルス アンナ マリア デルクセン
出願人/特許権者： エーエスエムエル ホールディング ナームローゼ フェンノートシャップ
代理人 (4件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-181684
公開番号（公開出願番号）：特開2005-012228
出願日： 2004年06月18日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：

【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて、液体の速度プロフィルを均一にし、光ひずみを防止することである。【解決手段】電磁放射で基板101を露光する露光システムが、電磁放射を基板上に集束させる投影光学系100を有しており、投影光学系100と基板101との間に液体流107を提供する液体供給システムが設けられており、基板と投影光学系との間に液体流の実質的に均一な速度分布を提供するために投影光学系の縁部に沿って配置された複数のマイクロノズル416が設けられている。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて、 電磁放射で基板を露光する露光システムが設けられており、該露光システムが、電磁放射を基板上に集束させる投影光学系を有しており、 投影光学系と基板との間に液体流を提供する液体供給システムが設けられており、 基板と投影光学系との間に液体流の実質的に均一な速度分布を提供するために投影光学系の縁部に沿って配置された複数のマイクロノズルが設けられていることを特徴とする、液体浸漬フォトリソグラフィシステム。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521

Fターム (4件)：

5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB26 ,  5F046DA12

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン