特許
J-GLOBAL ID:200903029969800580
乾式表面処理用装置およびこの装置を用いた乾式表面処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
清水 善▲廣▼ (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-199750
公開番号(公開出願番号):特開2002-088467
出願日: 2001年06月29日
公開日(公表日): 2002年03月27日
要約:
【要約】【課題】 特に、平板形状や弓形形状の希土類系永久磁石のような被処理物に対し、その両面に均一に処理を施すことができる乾式表面処理用装置を提供すること。【解決手段】 処理室内に、表面処理材料供給部と、被処理物を収容するための多孔性周面を有する筒型バレルを備え、前記筒型バレルを横設して水平方向の回転軸線を中心に回転させながら被処理物の表面処理を行うための乾式表面処理装置であって、前記筒型バレルが、前記筒型バレルを回転させることで収容された被処理物が前記筒型バレルの内周面に沿って摺動することを停止させるための摺動停止部を有することを特徴とする。
請求項(抜粋):
処理室内に、表面処理材料供給部と、被処理物を収容するための多孔性周面を有する筒型バレルを備え、前記筒型バレルを横設して水平方向の回転軸線を中心に回転させながら被処理物の表面処理を行うための乾式表面処理装置であって、前記筒型バレルが、前記筒型バレルを回転させることで収容された被処理物が前記筒型バレルの内周面に沿って摺動することを停止させるための摺動停止部を有することを特徴とする装置。
IPC (4件):
C23C 14/24
, B24C 1/00
, B24C 3/28
, H01F 41/02
FI (4件):
C23C 14/24 J
, B24C 1/00 Z
, B24C 3/28
, H01F 41/02 G
Fターム (8件):
4K029AA04
, 4K029BA03
, 4K029CA01
, 4K029CA03
, 4K029DB03
, 4K029JA02
, 5E062CD04
, 5E062CG07
引用特許:
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