特許
J-GLOBAL ID：200903029998420176

重合反応器内の水素濃度の制御方法及び制御装置

発明者：
林 茂樹

林 茂樹 について

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勝山 裕一

勝山 裕一 について

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坪原 健太

坪原 健太 について

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秋山 俊夫

秋山 俊夫 について


出願人/特許権者：
三井化学株式会社

三井化学株式会社 について


代理人 (1件)： 遠山 勉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-014104
公開番号（公開出願番号）：特開平10-204123
出願日： 1997年01月28日
公開日（公表日）： 1998年08月04日
要約：
【要約】【課題】 オレフィンの重合反応工程において、重合反応条件を変更する場合、又は多段重合において後段の水素濃度を前段のそれより低くする場合などに必要となる重合反応器内気相中の水素濃度低減を迅速に行うことにより、重合反応条件変更中に生成する物性の規格外製品を最少とする。【解決手段】 オレフィンの重合反応器に水素化反応器を併設し、重合反応器内のガスの少なくとも一部を抜き出し、水素化反応器に通してガス中の含有水素をオレフィンに付加反応させた後、再び重合反応器に戻すことにより重合反応器内の水素濃度を迅速に低減させる。
請求項（抜粋）：
水素を含有するガスの存在下、重合反応器内でオレフィンを重合する際に、前記重合反応器内のガスの少なくとも一部を抜き出し、次いで該抜き出したガス中の水素をオレフィンに付加させて該ガスを水素化処理し、その後前記水素化処理後のガスを再び重合反応器に供給することにより、重合反応器内の水素濃度を低下させることを特徴とする、重合反応器内の水素濃度の制御方法。
IPC (3件)：
C08F 10/00 ,  C08F 2/00 ,  C08F 2/34
FI (3件)：
C08F 10/00 ,  C08F 2/00 H ,  C08F 2/34
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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