特許

J-GLOBAL ID：200903030010937436

化学増幅ポジ型レジスト材料

発明者： 畠山 潤 ,  名倉 茂広 ,  石原 俊信
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-111309
公開番号（公開出願番号）：特開平9-274312
出願日： 1996年04月08日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：

【要約】【課題】 遠紫外線、電子線、X線などの高エネルギー線に対して高い感度を有し、特に高解像性で、かつPEDによるパターンのT-トップ形状或いは基板面での裾引きを解消するアルカリ水溶液で現像することによりパターン形成できる微細加工技術に適した化学増幅ポジ型レジスト材料を得る。【解決手段】 (1)pKa値が7以上で、100°Cにおける蒸気圧が2Torr未満である窒素含有有機化合物の中から選ばれる少なくとも1種と、(2)pKa値が7以上で、100°Cにおける蒸気圧が2〜100Torrの範囲である窒素含有有機化合物の中から選ばれる少なくとも1種とを配合する。(A)有機溶剤と、(B)ベース樹脂と、(C)酸発生剤と、(D)上記窒素含有有機化合物(1)及び(2)の混合物を配合して化学増幅ポジ型レジスト材料を調製する。

請求項（抜粋）：

(1)pKa値が7以上で、100°Cにおける蒸気圧が2Torr未満である窒素含有有機化合物の中から選ばれる少なくとも1種と、(2)pKa値が7以上で、100°Cにおける蒸気圧が2〜100Torrの範囲である窒素含有有機化合物の中から選ばれる少なくとも1種とを含有してなることを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。

IPC (4件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-073169   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-148742   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 特開昭63-237053
  
• 感放射線性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-209404   出願人：日本合成ゴム株式会社