光反射膜及び光反射膜の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-152845
公開番号（公開出願番号）：特開2003-344645
出願日： 2002年05月27日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【課題】優れた機械的強度を有し、広範囲な波長領域から選択される特定の波長を有する光に対して充分な反射率を得ることができる構造を有し、然も容易に構成することができる光反射膜及びその製造方法の提供。【解決手段】光反射膜1は、反射するべき光L1に対する受光面F20を有する基板20と、該受光面上に配置されており光反射面F40を有する光反射層40とを有している。光反射層は複数の積層体ユニット10が積層された構成を有している。各積層体ユニットは、誘電体材料からなる3以上の誘電体層11〜14が積層されてなる構成を有し、かつ、各積層体ユニット中の全ての誘電体層のうち互いに異なる屈折率を有する誘電体層が3以上含まれている。そして各積層体ユニット中の各誘電体層の屈折率が、当該各誘電体層のうち基板の受光面に最も近い位置に配置される層11から受光面に最も遠い位置に配置される層14にかけて減少している。

請求項（抜粋）：

反射するべき光に対する反射機能を有する光反射膜であって、前記光に対する受光面を有する基板と、前記基板の前記受光面上に隣接して配置されており、前記光に対する光反射面を有する膜状の光反射層と、を少なくとも有しており、前記光反射層は、複数の積層体ユニットが積層された構成を有しており、前記各積層体ユニットは、誘電体材料からなる誘電体層が3以上積層されてなる構成を有しており、かつ、前記各積層体ユニットを構成する全ての前記誘電体層のうち互いに異なる屈折率を有する誘電体層が3以上含まれており、前記各積層体ユニットを構成する前記各誘電体層の屈折率が、当該各誘電体層のうち前記基板の前記受光面に最も近い位置に配置される最内部の層から前記受光面に最も遠い位置に配置される最外部の層にかけて減少していること、を特徴とする光反射膜。

IPC (2件)：

G02B 5/26 , G02B 5/28

FI (2件)：

G02B 5/26 , G02B 5/28

Fターム (9件)：

2H048FA05 , 2H048FA07 , 2H048FA13 , 2H048FA24 , 2H048GA04 , 2H048GA18 , 2H048GA43 , 2H048GA60 , 2H048GA61

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭59-136706
可視光反射部材
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-068568 出願人：信越半導体株式会社
特開昭59-127001

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