特許

J-GLOBAL ID：200903030036969018

テフロンの微細加工方法及び加工装置

発明者： 加藤 隆典 ,  張 延平
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 敬四郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-146127
公開番号（公開出願番号）：特開平8-336894
出願日： 1995年06月13日
公開日（公表日）： 1996年12月24日
要約：

【要約】【目的】 アスペクト比が高くかつ大面積の加工が容易なテフロンの微細加工技術を提供する。【構成】 放射光をテフロン表面に照射してテフロンを加工するテフロンの加工方法であって、テフロン表面を有する加工対象物を準備する工程と、マスク面に放射光を実質的に透過させる領域と、実質的に透過させない領域が画定されたマスクを準備する工程と、加工対象物の少なくともテフロン表面を加熱する工程と、少なくとも波長160nmの紫外線を含む放射光を、マスクを介して加工対象物の表面に照射する工程とを含む。

請求項（抜粋）：

放射光をテフロン表面に照射してテフロンを加工するテフロンの加工方法であって、テフロン表面を有する加工対象物を準備する工程と、マスク面に前記放射光を実質的に透過させる領域と、実質的に透過させない領域が画定されたマスクを準備する工程と、前記加工対象物の少なくとも前記テフロン表面を加熱する工程と、少なくとも波長160nmの紫外線を含む放射光を、前記マスクを介して前記加工対象物の表面に照射する工程とを含むテフロンの加工方法。

IPC (4件)：

B29C 59/16 ,  C08J 7/00 301 ,  C08J 7/00 304 ,  C08L 27/12 LGB

FI (4件)：

B29C 59/16 ,  C08J 7/00 301 ,  C08J 7/00 304 ,  C08L 27/12 LGB

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 寸法比の大きい微小パターン構造体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-036310   出願人：ビーエーエスエフアクチエンゲゼルシヤフト
• 特開平3-182758