巻き取り式成膜装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：樺山亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-036526
公開番号（公開出願番号）：特開平9-228046
出願日： 1996年02月23日
公開日（公表日）： 1997年09月02日
要約：

【要約】【課題】フィルム基板に対して極めて強い密着性を持ち良質かつ均一な薄膜を高速でフィルム基板上に形成可能な巻き取り式成膜装置の提供。【解決手段】本装置は、活性ガス及び/又は不活性ガスが導入される真空槽13、真空槽内において蒸発物質を蒸発させる蒸発源7、蒸発源とフィルム基板3表面が対向するように配置されたフィルム巻き取り装置1、蒸発源とフィルム基板との間に配備された熱電子発生用フィラメント6、フィラメントとフィルム基板との間に配備されたグリッド5、真空槽内に所定の電気的状態を実現する電源手段15〜17、真空槽内と電源手段を電気的に連結する導電手段8〜10を有し、フィラメントに対しグリッドが正電位となるようにし、フィラメントと蒸発源との間に配置された蒸発分布補正用マスク20を有し、グリッド5の単位面積当りの開口面積をグリッドの面内で変化させ基板幅方向の膜厚分布補正を行う。

請求項（抜粋）：

活性ガスもしくは活性ガスと不活性ガスの混合ガスが導入される真空槽と、この真空槽内において蒸発物質を蒸発させるための蒸発源と、上記真空槽内においてフィルム基板を保持し上記蒸発源とフィルム基板表面が対向するように配置されたフィルム巻き取り装置と、上記蒸発源とフィルム基板との間に配備された熱電子発生用のフィラメントと、このフィラメントとフィルム基板との間に配備された蒸発物質を通過させうるグリッドと、上記真空槽内に所定の電気的状態を実現するための電源手段と、上記真空槽内と上記電源手段とを電気的に連結する導電手段とを有し、上記電源手段により上記フィラメントに対し上記グリッドが正電位となるようにし、上記フィラメントと蒸発源との間に配置された蒸発分布補正用マスクを有し、かつ、上記グリッドの単位面積当りの開口面積をグリッドの面内で変化させ、フィルム基板幅方向の膜厚分布補正を行うことを特徴とする巻き取り式成膜装置。

IPC (2件)：

C23C 14/56 , C23C 14/32

FI (2件)：

C23C 14/56 A , C23C 14/32

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-099169
特開平1-180971
光磁気記録媒体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-351640 出願人：株式会社リコー

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