特許
J-GLOBAL ID:200903030071010068

光触媒用チタン陽極酸化皮膜の生成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 野田 雅士 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-319274
公開番号(公開出願番号):特開2003-129290
出願日: 2001年10月17日
公開日(公表日): 2003年05月08日
要約:
【要約】【課題】 一度の陽極酸化で活性のある皮膜形成が行えて、生産性に優れ、浴の寿命も長く、工業化が実現でき、かつ高い光触媒活性が得られる方法を提供する。【解決手段】 ルチルを含む光触媒用チタン陽極酸化皮膜を生成する。硫酸および過酸化水素を含む電解浴に、pKaが正の値をとる弱酸またはその塩の添加剤を添加した浴、またはこれに酸化チタンの粉末を添加した浴中で、チタンの陽極酸化を行う。酸化チタンの粉末は、平均粒子径が100nm以下のものを用いる。添加剤の濃度は0.1M以下とする。電解条件は、電流密度が1.0〜5.0A/dm2 の直流電流、浴温度が20〜50°Cの範囲とする。
請求項(抜粋):
硫酸および過酸化水素を含む電解浴に、濃度0.1M以下のpKaが正の値をとる弱酸またはその塩の添加剤と、平均粒子径が100nm以下の酸化チタンの粉末とを添加した浴中で、電解条件を、電流密度:1.0〜5.0A/dm2 の直流電流、浴温度:20〜50°C、としてチタンを陽極酸化し、ルチル型酸化チタンとアナタース型酸化チタンとの混合物を主成分とする光触媒用チタン陽極酸化皮膜を生成する光触媒用チタン陽極酸化皮膜の生成方法。
IPC (5件):
C25D 11/26 302 ,  B01D 53/86 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301
FI (6件):
C25D 11/26 302 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 J ,  B01D 53/36 J ,  B01D 53/36 G
Fターム (29件):
4D048AA19 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA41X ,  4D048EA01 ,  4G069AA02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CA01 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069DA06 ,  4G069EA11 ,  4G069EB18X ,  4G069EB18Y ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069EC27 ,  4G069FA01 ,  4G069FA04 ,  4G069FB11 ,  4G069FB42 ,  4G069FB58 ,  4G069FC07 ,  4G069FC09 ,  4G069FC10
引用特許:
審査官引用 (5件)
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