荷電粒子ビーム露光方法及び装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：北野好人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-091065
公開番号（公開出願番号）：特開平10-284384
出願日： 1997年04月09日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：

【要約】【課題】電子ビームやイオンビーム等の荷電粒子ビームを利用した荷電粒子ビーム露光装置及びその露光方法に関し、偏向位置によって露光パターンの大きさが異なることのない荷電粒子ビーム露光方法及び装置を提供する。【解決手段】荷電粒子ビームを偏向器により偏向し、偏向領域内の偏向位置に応じて像面湾曲及び/又は非点収差を補正して荷電粒子ビームを試料上に照射する荷電粒子ビーム露光方法である。偏向領域内の各偏向位置においてシャープネスの評価値が最大となる像面湾曲及び/又は非点収差の補正値を求め、偏向領域内の各偏向位置におけるシャープネスの評価値から基準評価値を決定し、各偏向位置におけるシャープネスの評価値がほぼ同等の基準評価値となるように、各偏向位置における像面湾曲及び/又は非点収差の補正値を修正する。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを偏向器により偏向し、偏向領域内の偏向位置に応じて像面湾曲及び/又は非点収差を補正して前記荷電粒子ビームを試料上に照射する荷電粒子ビーム露光方法において、前記偏向領域内の各偏向位置においてシャープネスの評価値が最大となる像面湾曲及び/又は非点収差の補正値を求めるシャープネス評価工程と、前記各偏向位置におけるシャープネスの評価値がほぼ同等の基準評価値となるように、前記各偏向位置における前記像面湾曲及び/又は非点収差の補正値を修正する補正値決定工程とを有することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01J 37/153

FI (6件)：

H01L 21/30 541 B , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01J 37/153 Z , H01L 21/30 541 U , H01L 21/30 541 F

引用特許：

審査官引用 (4件)

電子ビーム露光方法、現像方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-143191 出願人：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
荷電粒子ビーム露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-143724 出願人：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
特開平2-010823

全件表示

前のページに戻る