特許

J-GLOBAL ID：200903035287476233

電子ビーム露光方法、現像方法及び装置

発明者： 安武 信幸
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-143191
公開番号（公開出願番号）：特開平8-017699
出願日： 1994年06月24日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】 微細なICパターンを偏向領域内で均一に露光することが可能な電子ビーム露光方法および露光装置並びにその現像方法及び現像装置を提供する。【構成】 電子ビーム偏向領域内の所定の基準位置において、ダイナミックフォーカス及びダイナミックスティグマティズムを調整する調整手段と、電子ビーム偏向領域内の所定の判定位置において電子ビームのビーム幅及びエッジシャープネスを求める判定手段と、電子ビーム偏向領域の所定の調整位置における電子ビームのビーム幅及びエッジシャープネスが、判定手段により求めたビーム幅及びエッジシャープネスと等しくなるようにダイナミックフォーカス補正データ及び前記ダイナミックスティグマティズム補正データを求める補正データ演算手段と、を備える。また、基準位置におけるパターン幅が所望のパターン幅となるように全体の現像レベルを調整する現像レベル調整手段を備える。

請求項（抜粋）：

ダイナミックフォーカス補正データ及びダイナミックスティグマティズム補正データに基づいてダイナミックフォーカス及びダイナミックスティグマティズムを調整して電子ビーム露光を行う電子ビーム露光方法であって、電子ビーム偏向領域(AR)内の所定の基準位置(PC )において、ダイナミックフォーカス及びダイナミックスティグマティズムを調整する調整工程と、前記電子ビーム偏向領域内の所定の判定位置(P1 〜P4 )において電子ビームのビーム幅及びエッジシャープネスを求める判定工程と、前記電子ビーム偏向領域(AR)の所定の調整位置における前記電子ビームのビーム幅及びエッジシャープネスが、前記判定工程により求めたビーム幅及びエッジシャープネスと等しくなるように前記ダイナミックフォーカス補正データ及び前記ダイナミックスティグマティズム補正データを求める補正データ演算工程と、を備えたことを特徴とする電子ビーム露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 541 E ,  H01L 21/30 541 N ,  H01L 21/30 569 F

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 電子ビーム露光装置及び電子ビームの制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-275821   出願人：富士通株式会社