特許
J-GLOBAL ID:200903030076537609

スプレー塗布法、電子写真装置用部品の製造方法及びそれを用いた電子写真装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小松 秀岳 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-289308
公開番号(公開出願番号):特開2003-098699
出願日: 2001年09月21日
公開日(公表日): 2003年04月04日
要約:
【要約】【課題】 1μm以下の塗膜の均一性を向上させるスプレー塗工法の提供。【解決手段】 膜厚1μm以下の膜を少なくとも一層以上均一にスプレー塗工した被塗布物の製造方法であって、1μm以下の膜の膜厚をX(μm)、その1μm以下の膜を形成するのに必要なスプレー塗布回数をY(回:整数)とした場合に、下記の式を満足するようにスプレー塗布することを特徴とするスプレー被塗布物の製造方法。-3×Ln(X)+1 ≦ Y
請求項(抜粋):
膜厚1μm以下の膜を少なくとも一層以上均一にスプレー塗工した被塗布物の製造方法であって、1μm以下の膜の膜厚をX(μm)、その1μm以下の膜を形成するのに必要なスプレー塗布回数をY(回:整数)とした場合に、下記の式を満足するようにスプレー塗布することを特徴とするスプレー被塗布物の製造方法。-3×Ln(X)+1 ≦ Y
IPC (12件):
G03G 5/05 102 ,  B05D 1/02 ,  B05D 5/12 ,  G03G 5/00 101 ,  G03G 15/00 ,  G03G 15/00 550 ,  G03G 15/01 112 ,  G03G 15/04 ,  G03G 15/043 ,  G03G 15/08 501 ,  G03G 15/16 ,  G03G 21/00 350
FI (11件):
G03G 5/05 102 ,  B05D 1/02 Z ,  B05D 5/12 B ,  G03G 5/00 101 ,  G03G 15/00 ,  G03G 15/00 550 ,  G03G 15/01 112 A ,  G03G 15/08 501 D ,  G03G 15/16 ,  G03G 21/00 350 ,  G03G 15/04 120
Fターム (60件):
2H030BB02 ,  2H030BB23 ,  2H030BB42 ,  2H030BB63 ,  2H035CA07 ,  2H035CB01 ,  2H035CB03 ,  2H068AA10 ,  2H068AA21 ,  2H068AA26 ,  2H068AA34 ,  2H068AA41 ,  2H068EA14 ,  2H068EA17 ,  2H068EA36 ,  2H068FA30 ,  2H068FB07 ,  2H068FB11 ,  2H071BA43 ,  2H071DA02 ,  2H071DA08 ,  2H071DA09 ,  2H071DA15 ,  2H071EA18 ,  2H076AB05 ,  2H076AB09 ,  2H076DA36 ,  2H076DA39 ,  2H077AD06 ,  2H077FA13 ,  2H077GA13 ,  2H200GA23 ,  2H200GA31 ,  2H200GA47 ,  2H200GA49 ,  2H200GA50 ,  2H200GA51 ,  2H200GB01 ,  2H200HA02 ,  2H200HA12 ,  2H200HA28 ,  2H200HB03 ,  2H200HB12 ,  2H200JA02 ,  2H200JC03 ,  2H200JC07 ,  2H200JC15 ,  2H200LC04 ,  2H200LC10 ,  2H200MA04 ,  2H200MA20 ,  4D075AA01 ,  4D075AA82 ,  4D075CA22 ,  4D075CA48 ,  4D075DA15 ,  4D075DA20 ,  4D075DC21 ,  4D075DC27 ,  4D075EA45
引用特許:
審査官引用 (10件)
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