特許

J-GLOBAL ID：200903030087216103

汚染物質の捕捉方法および汚染物質の遮断壁

発明者： 柏谷 衛 ,  岩佐 弘 ,  飯尾 正俊 ,  上岡 誠一
出願人/特許権者： ライト工業株式会社
代理人 (1件)： 永井 義久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-070021
公開番号（公開出願番号）：特開平10-263499
出願日： 1997年03月24日
公開日（公表日）： 1998年10月06日
要約：

【要約】【目的】遮断壁の透水係数を低下させる。【構成】汚染されたまたは汚染の虞れがある汚染対象汚染領域Aに対して、セメントとブレーン値が6000cm2 /g以上の高炉水砕スラグ微粉末とを主体とする材料により遮断壁2を構築し、その遮断壁2の外方に汚染物質の流出を防止する。

請求項（抜粋）：

汚染されたまたは汚染の虞れがある汚染対象汚染領域に対して、遮断壁を構築してその遮断壁の外方に汚染物質の流出を防止する方法において、前記遮断壁を、ベントナイトとブレーン値が6000cm2 /g以上の高炉水砕スラグ微粉末とを主体とする材料により構築することを特徴とする汚染物質の捕捉方法。

IPC (4件)：

B09B 1/00 ZAB ,  C04B 7/153 ,  C04B 28/08 ,  C04B 14:10

FI (3件)：

B09B 1/00 ZAB F ,  C04B 7/153 ,  C04B 28/08

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 汚染物質の捕捉方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-012342   出願人：ライト工業株式会社
• 特開昭61-105500
  
• 汚染物質の遮断壁
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-317432   出願人：ライト工業株式会社
• 特開平3-208853