UVフィルター素子

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-289866
公開番号（公開出願番号）：特開2003-177235
出願日： 2002年10月02日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
要約：

【要約】【課題】 UVと可視光領域との間に大きなシャープカットを提供し、UV領域全体に効率のよい吸収を提供し、且つ良好な熱安定性も提供するUVフィルター素子を提供する。【解決手段】 a)式(I):【化1】(R1〜R5は、独立に、水素、ハロゲン、ニトロ、またはヒドロキシル、あるいはさらに置換されているかまたは非置換のアルキル、アルケニル、アリール、アルコキシ、アシルオキシ、エステル、カルボキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルアミン、アリールアミン、アルキルニトリル、アリールニトリル、アリールスルホニル、または5〜6員の複素環式基である)の第一紫外光吸収性ジベンゾイルメタン化合物、およびb)前記第一化合物が吸収性を欠いている波長のところで紫外光を吸収する第二紫外光吸収性化合物が分子分散されているポリマー相を含んでなる紫外光吸収性の、ポリマーフィルム、コーティング、または成型品のUVフィルター素子。

請求項（抜粋）：

a)式(I):【化1】(上式中、R1〜R5は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、ニトロ、またはヒドロキシル、あるいはさらに置換されているかまたは非置換のアルキル、アルケニル、アリール、アルコキシ、アシルオキシ、エステル、カルボキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルアミン、アリールアミン、アルキルニトリル、アリールニトリル、アリールスルホニル、または5〜6員の複素環式基である)の第一紫外光吸収性ジベンゾイルメタン化合物、およびb)前記第一化合物が吸収性を欠いている波長のところで紫外光を吸収する第二紫外光吸収性化合物が分子分散されているポリマー相を含んでなる紫外光吸収性の、ポリマーフィルム、コーティング、または成型品のUVフィルター素子。

IPC (4件)：

G02B 5/22 , C09K 3/00 104 , C09K 3/00 , G02B 5/30

FI (4件)：

G02B 5/22 , C09K 3/00 104 C , C09K 3/00 104 Z , G02B 5/30

Fターム (8件)：

2H048CA04 , 2H048CA13 , 2H048CA17 , 2H048CA29 , 2H049BA02 , 2H049BB33 , 2H049BB66 , 2H049BC22

引用特許：

出願人引用 (2件)

米国特許第4,043,639号明細書
米国特許第5,806,834号明細書

審査官引用 (5件)

耐光性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-186262 出願人：三菱瓦斯化学株式会社
紫外線-吸収性フィルムおよび保護シートとしてのその使用
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-362956 出願人：アグフア-ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ
特開平4-213348

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