特許
J-GLOBAL ID：200903030165941120
レ-ザ-プラズマX線源装置
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
工業技術院大阪工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-376352
公開番号（公開出願番号）：特開2000-188198
出願日： 1998年12月21日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
要約：
【要約】【課題】 LIGAプロセスに必要な波長のX線を発生させることができるレーザープラズマX線源装置を提供する。【解決手段】 レーザー発生装置1から発生されるパルスレーザー光Lを、ガスジェット装置2から噴射される高密度ガスGに照射してレーザー生成プラズマPを生成し、X線反射光学系22及びX線透過窓23により生成プラズマから発生されるX線のうち0.2〜0.6nmの波長を有するX線を選択して反射集光する。
請求項（抜粋）：
パルスレーザー光を発生し、発生したパルスレーザー光をターゲットに照射してレーザー生成プラズマを生成するためのレーザー発生装置と、前記レーザー生成プラズマから発生されるX線のうち0.2〜0.6nmの波長を有するX線を選択して反射集光するX線反射光学系とを備えるレーザープラズマX線源装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
4C092AA06
, 4C092AA14
, 4C092AB27
