特許

J-GLOBAL ID：200903030245375400

薄膜形成装置および薄膜形成方法

発明者： 寺内 健一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-042921
公開番号（公開出願番号）：特開平9-237748
出願日： 1996年02月29日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：

【要約】【課題】 装置の小型化が実現できる薄膜形成装置を提供する。さらに、生産性が向上できる薄膜形成方法を提供する。【解決手段】 薄膜形成装置は基板ステージ1、処理液供給手段(スリットコーター2)およびチャンバ室蓋3を備える。基板ステージ1は基板4を保持するとともに開閉可能な減圧チャンバ室の下側チャンバを形成する。処理液供給手段は減圧チャンバ室が開いた状態において基板ステージ1に保持された基板4の表面に薄膜を塗布する。チャンバ室蓋3は基板ステージ1とともに減圧チャンバ室を形成する。減圧チャンバ室は閉止状態において基板4の表面に塗布された薄膜に減圧乾燥を行う。さらに、薄膜形成方法は、基板4に薄膜を塗布した直後にこの塗布した場所で薄膜に減圧乾燥を行う。

請求項（抜粋）：

基板の表面に薄膜を形成する薄膜形成装置において、前記基板を保持する基板保持部と、一方向に延びる処理液供給口を有し、前記基板保持部に保持された前記基板の表面に沿って相対移動しながら前記基板の表面に処理液を供給するノズルを含む処理液供給手段と、前記基板保持部に保持された前記基板をその表面側の空間とともに密閉するチャンバ室と、前記チャンバ室内を減圧する減圧手段と、を備えたことを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502

FI (2件)：

H01L 21/30 564 Z ,  G03F 7/16 502

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-219926
  
• 基板への塗布液塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-012139   出願人：大日本スクリーン製造株式会社