特許
J-GLOBAL ID：200903030294706480

波長に依存しないリソグラフィ用の露光パターン生成方法及び露光パターン生成装置

発明者：
岡田 朋之

岡田 朋之 について

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小俣 武敏

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須川 一弥

須川 一弥 について

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相蘇 喜代一

相蘇 喜代一 について

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杉山 正男

杉山 正男 について

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河口 友秋

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出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 土井 健二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-343615
公開番号（公開出願番号）：特開2003-149785
出願日： 2001年11月08日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：
【要約】【課題】2つの拡張パターンを利用したリソグラフィ処理により,拡張パターンが重なり合う領域に合成パターンを生成する時に,誤りパターンが生成されることを防止する。【解決手段】所定方向に並ぶ複数のパターンを形成するリソグラフィ用の露光パターンの生成方法において,当該所定方向に沿って複数のパターンをカウントし,奇数番目のパターンについては前記所定方向に沿った第1の方向に,偶数番目のパターンについては第1の方向と反対の第2の方向に,それぞれ辺を移動させて第1の拡大パターンを生成する工程と,奇数番目のパターンについては前記第2の方向に,偶数番目のパターンについては第1の方向に,それぞれ辺を移動させて第2の拡大パターンを生成する工程とを有する。この方法では,隣接するパターンに対して,拡大パターン生成のための辺移動の方向を,それぞれ逆方向にする。それにより,第1の拡大パターンと第2の拡大パターンとが,元のパターン以外の領域で重なり合うことが防止され,誤りパターンの発生が防止される。
請求項（抜粋）：
所定方向に並ぶ複数のパターンを形成するリソグラフィ用の露光パターンの生成方法において,当該所定方向に沿う前記複数のパターンのうち,奇数番目のパターンについては前記所定方向に沿った第1の方向に,偶数番目のパターンについては前記第1の方向と反対の第2の方向に,それぞれ辺を移動させて第1の拡大パターンを生成する工程と,前記奇数番目のパターンについては前記第2の方向に,前記偶数番目のパターンについては第1の方向に,それぞれ辺を移動させて第2の拡大パターンを生成する工程とを有し,前記第1及び第2の拡大パターンは,それぞれの拡大パターンによるリソグラフィ工程による元の複数のパターンの形成に使用されることを特徴とする露光パターンの生成方法。
IPC (2件)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 D ,  H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (9件)：
2H095BA02 ,  2H095BA07 ,  2H095BB01 ,  2H095BB02 ,  2H095BB36 ,  2H095BC09 ,  5F046AA13 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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