特許

J-GLOBAL ID：200903030299020934

脱水システムおよびこれを用いた泥水処理システム並びに脱水方法

発明者： 田畑 覚士 ,  安本 匡剛 ,  中村 幸之助 ,  岩井 義雄 ,  浅井 康彦 ,  松隈 直文 ,  関口 高弘 ,  浦矢 昭夫
出願人/特許権者： 戸田建設株式会社 ,  株式会社トーメック ,  サンエー工業株式会社
代理人 (1件)： 布施 行夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-004423
公開番号（公開出願番号）：特開2001-193100
出願日： 2000年01月13日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：

【要約】【課題】 スラリーを再生利用できるように脱水する脱水システムおよびこれを用いた泥水処理システム並びに脱水方法を提供すること。【解決手段】 スラリーが供給され、複数のろ布18で覆われた凹溝が設けられれたろ板16によって形成される開閉可能なろ室17と、ろ室17にスラリーが供給されて密閉された状態で前記スラリーに正圧100を加える加圧手段と、前記スラリーが加圧された状態で負圧102を加えてスラリーの水分を吸引する真空吸引手段とを有するフィルタープレス装置を設け、スラリーを外側が塑性体で中が液体の半脱水ケーキにする。当該半脱水ケーキを流動化処理土の原料等に加工することによりスラリーを再生利用する。

請求項（抜粋）：

スラリーが供給され、開閉可能な脱水室と、前記脱水室に前記スラリーが供給されて密閉された状態で前記スラリーを加圧する加圧手段と、を含み、前記加圧手段を用いて加圧することにより、前記スラリーの外側が脱水状態で内側が非脱水状態の半脱水ケーキを生成することを特徴とする脱水システム。

IPC (3件)：

E02F 7/00 ,  C02F 11/12 ,  E21B 21/06

FI (3件)：

E02F 7/00 C ,  C02F 11/12 D ,  E21B 21/06

Fターム (10件)：

4D059AA09 ,  4D059BE14 ,  4D059BE16 ,  4D059BE51 ,  4D059BK30 ,  4D059CC04 ,  4D059EA01 ,  4D059EA02 ,  4D059EA20 ,  4D059EB20

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 汚泥の脱水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-217585   出願人：東洋建設株式会社, 富士エンジニアリング株式会社

審査官引用 (1件)

• 汚泥の脱水処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-217585   出願人：東洋建設株式会社, 富士エンジニアリング株式会社