処理ユニット及び処理ユニット構築体

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小山有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-161517
公開番号（公開出願番号）：特開平10-012693
出願日： 1996年06月21日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：

【要約】【課題】半導体ウェーハやガラス基板等の板状被処理物に対し一連の処理を行う従来の装置は横方向に場所を占有してしまう。【解決手段】処理装置構築体1は複数の処理ユニット2...を横方法に連設して構成され、各処理ユニット2...の最上部に搬送部3を設け、この搬送部3内に設けたシャトル(SH)等の搬送装置によって隣接する処理ユニット間での板状被処理物の受け渡しを可能としている。処理ユニット2は処理ブロック4,4とこれら処理ブロック4,4間に配置される移し換えロボット(R)とから構成され、更に各処理ユニット2...は処理装置構築体1に対して増減が可能となるように互いに独立している。

請求項（抜粋）：

半導体ウェーハやガラス基板等の板状被処理物に対し一連の処理を行う処理ユニットであって、この処理ユニットは処理ブロックと移し換えロボットとから構成され、前記処理ブロックは複数の処理装置を上下方向に段積み重ねてなり、また前記移し換えロボットは前記各段の処理装置の位置で停止可能な昇降体と、前記各段の処理装置に対し板状被処理物を出し入れすべく前記昇降体に設けられたアームとを備えていることを特徴とする処理ユニット。

引用特許：

審査官引用 (6件)

処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-202717 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-261671 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平1-241840

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