特許

J-GLOBAL ID：200903030534923408

フォトレジスト組成物

発明者： 植木 裕美 ,  竹山 尚幹 ,  植田 裕治 ,  楠本 武宏 ,  中野 由子
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-278477
公開番号（公開出願番号）：特開平6-130666
出願日： 1992年10月16日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：

【要約】【目的】 タイムデレイ効果の耐性に優れたフォトレジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤及び架橋剤を含むフォトレジスト組成物であって、上記酸発生剤がpKa 3〜6の範囲にある弱酸を露光により発生する化合物の少なくとも1つ以上、及びpKa -0.7〜-10の範囲にある強酸を露光により発生する化合物の少なくとも1つ以上を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、酸発生剤及び架橋剤を含むフォトレジスト組成物であって、上記酸発生剤がpKa3〜6の範囲にある弱酸を露光により発生する化合物の少なくとも1つ以上、及びpKa-0.7〜-10の範囲にある強酸を露光により発生する化合物の少なくとも1つ以上を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-217855
  
• 感光性樹脂
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-285774   出願人：日本電気株式会社
• ポジ型レジスト組成物並びにそれを用いるカラーフィルターの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-192140   出願人：住友化学工業株式会社