球面フォトマスクおよびパターン作製方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：奈良武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-258901
公開番号（公開出願番号）：特開平8-095231
出願日： 1994年09月28日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：

【要約】【目的】簡単かつ量産性のある方法で球面上に凹凸パターンを形成する。【構成】球面フォトマスク11の凸面上にはクロムの同心円状回折格子パターンが施されている。ガラス基板12のフォトレジスト13を塗布した球面に球面フォトマスク11を隙間無く密着させ、露光装置15にて紫外線16を当てて露光する。この後、フォトレジスト13を現像して凹凸パターンを得、これを硬化する。

請求項（抜粋）：