特許

J-GLOBAL ID：200903030618038728

プラズマCVD法、プラズマCVD装置及び電極

発明者： 村上 泰夫 ,  中東 孝浩
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 谷川 昌夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-053659
公開番号（公開出願番号）：特開平11-246974
出願日： 1998年03月05日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：

【要約】【課題】 形状にかかわらず中空物品の外表面に均一に又は略均一状に成膜できるプラズマCVD法、装置及びこれらに用いることができる電極を提供する。【解決手段】 中空物品Sの内腔に配置する内部電極4と外部に配置する外部電極1とを用い、内部電極4として、中空物品Sの開口部S1を通過させることができる縮小形状又は物品Sの内腔の容積及び形状に応じて予め定めた拡大形状を選択的にとることができるものを用い、物品Sの外表面への成膜にあたり内部電極4を縮小形状として物品Sの開口部S1を通して物品S内腔に挿入した後、内部電極4を拡大形状として物品S内に設置した状態で、内部電極4及び外部電極1間にガスプラズマ化用電力を供給して物品Sの外表面に成膜するプラズマCVD法、プラズマCVD装置及び電極4。

請求項（抜粋）：

成膜原料ガスに電力を供給して該ガスをプラズマ化し、該プラズマの下で、開口部を有する中空物品の外表面に成膜するプラズマCVD法であり、前記ガスプラズマ化用電力を供給する電極として前記中空物品の内腔に配置する内部電極と外部に配置する外部電極とを用い、前記内部電極として、前記中空物品の開口部を通過させることができる縮小形状又は該物品の内腔の容積及び形状に応じて予め定めた拡大形状を選択的にとることができるものを用い、該物品外表面への成膜にあたり該内部電極を前記縮小形状として該物品の開口部を通して該物品内腔に挿入した後、該内部電極を前記拡大形状として該物品内に設置した状態で、該内部電極及び前記外部電極間に前記ガスプラズマ化用電力を供給して該物品の外表面に成膜することを特徴とするプラズマCVD法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-284081
  
• プラズマCVD法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-215581   出願人：日新電機株式会社