特許
J-GLOBAL ID:200903030645766760
ビス(シリルオルガニル)-ポリスルファンの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
矢野 敏雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-340056
公開番号(公開出願番号):特開平10-175981
出願日: 1997年12月10日
公開日(公表日): 1998年06月30日
要約:
【要約】【課題】 先行技術により短い反応時間でビス(シリルオルガニル)-ポリスルファンを製造する。【解決手段】 一般式:(R1R2R3SiR4)2Sx (I)[式中、R1,R2,R3は、同じか又は相互に異なっている分枝及び非分枝のアルキル基及び/又はアルコキシ基、アリール基を表わし;R4はC原子1〜8個の鎖長を有する2価のアルキリデン基又は-(CH2)n-C6H4-(CH2)n-(n=1〜4)を表わす]で示されるビス(シリルオルガニル)-ポリスルファンを、一般式:R1R2R3SiR4X (II)で示されるハロゲンアルキルアルコキシシラン又はハロゲンアルコキシシランと、一般式:M2Sx (III)で示されるポリスルフィドとの反応によって製造する場合、第1工程において60〜300°Cの温度で真空下で結晶水を含む硫化物水和物を硫黄と反応させることによって脱水ポリスルフィドを製造する。
請求項(抜粋):
一般式:(R1R2R3SiR4)2Sx (I)[式中、R1,R2,R3は、同じか又は相互に異なっていて、C原子1〜8個の鎖長を有する分枝及び非分枝のアルキル基及び/又はアルコキシ基を表わし、この際少なくとも1個のアルコキシ基が存在し、アリール基、特にフェニル、トルイル、ベンジルを表わし;R4はC原子1〜8個、好ましくは1〜4個の鎖長を有する2価のアルキリデン基又は-(CH2)n-C6H4-(CH2)n-(n=1〜4)を表わし、xは1よりも大きい数、好ましくは2〜8を表わす]で示されるビス(シリルオルガニル)-ポリスルファンを、一般式:R1R2R3SiR4X (II)[式中、R1,R2,R3,R4は式(I)からのものを表わし、XはCl、Br又はIのようなハロゲン原子を表わす]で示されるハロゲンアルキルアルコキシシラン又はハロゲンアルコキシシランと、一般式:M2Sx (III)[式中、Mはアルカリ金属陽イオン、半アルカリ土類金属陽イオン又は亜鉛陽イオンを表わし、xは2〜8の数を表わす]で示されるポリスルフィドとの反応によって製造する方法において、第1工程において60〜300°Cの温度で有機溶剤の不在で真空下で一般式:M2Sx-z[式中M及びxは前記のものを表わし、zは1〜7の数を表わし、(x-z)≧1である]で示される結晶水を含む硫化物(硫化物水和物)を硫黄と反応させることによって式(III)による脱水ポリスルフィドを製造することを特徴とする、ビス(シリルオルガニル)-ポリスルファンの製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
C07F 7/08 Q
, C07F 7/18 W
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (1件)
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化学大辞典8, 19890815, 縮刷版第32刷, 781〜782頁
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