特許

J-GLOBAL ID：200903030648112663

スポットサイズ変換光導波路の製法

発明者： 荒武 淳 ,  杉谷 末広
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 中村 純之助 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-035754
公開番号（公開出願番号）：特開2000-235128
出願日： 1999年02月15日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：

【要約】【課題】簡単なプロセスで高い結含効率を持ったスポットサイズ変換導波路の製法を提供することを目的とする。【解決手段】基板1上に、下部クラッド層2を形成する第1の工程と、コア層3を形成する第2の工程と、レジスト4に線幅がテーパー状のパターニングをする第3の工程と、等方エッチングにより基板1に垂直な方向のみならず平行な方向にもエッチングが進むような条件の下にコア層3をエッチングする第4の工程の4つの工程を少なくとも用いる。

請求項（抜粋）：

基板上に、下部クラッド層を形成する第1の工程と、コア層を形成する第2の工程と、レジストに線幅がテーパー状のパターニングをする第3の工程と、等方エッチングにより上記基板に垂直な方向のみならず平行な方向にもエッチングが進むような条件の下に上記コア層をエッチングする第4の工程の4つの工程を少なくとも含むことを特徴とするスポットサイズ変換光導波路の製法。

IPC (2件)：

G02B 6/13 ,  G02B 6/122

FI (2件)：

G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 A

Fターム (7件)：

2H047KA13 ,  2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047QA05 ,  2H047TA01 ,  2H047TA43

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-308803
  
• V溝付光導波路基板の製造方法及びその製法により製造されたV溝付光導波路基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-096035   出願人：日本航空電子工業株式会社