特許
J-GLOBAL ID：200903030661254884
エレクトロルミネッセント素子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-375181
公開番号（公開出願番号）：特開2004-006231
出願日： 2002年12月25日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
【課題】フォトリソグラフィー法を用いて発光部を形成する際に、パターン状に形成された各発光部上に何層も余分な層が積層されている状態を回避し、剥離を容易かつ迅速に行うEL素子の製造方法を提供する。【解決手段】EL素子の製造方法において、表面にフォトレジスト層を有する少なくとも1色の発光部が設けられている基板上に、上記発光部とは異色の発光層形成用塗工液を塗布し、異色発光層を形成する工程と、上記異色発光層上にフォトレジストを塗布し異色発光層用フォトレジスト層を形成する工程と、上記異色発光層用フォトレジスト層を露光・現像することにより、異色発光部が形成される部分の異色発光層用フォトレジスト層が残存するようにパターニングする工程と、上記異色発光層用フォトレジスト層が除去された部分の異色発光層を除去し、異色発光層用フォトレジスト層を表面に有するパターン状の異色発光部を形成する工程とを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィー法を用いたエレクトロルミネッセント素子の製造方法において、表面にフォトレジスト層を有する少なくとも1色の発光部が設けられている基板上に、前記発光部とは異なる色を呈する異色発光層形成用塗工液を塗布し、異色発光層を形成する工程と、
前記異色発光層上にフォトレジストを塗布し異色発光層用フォトレジスト層を形成する工程と、
前記異色発光層用フォトレジスト層をパターン露光し、現像することにより、異色発光部が形成される部分の異色発光層用フォトレジスト層が残存するようにパターニングする工程と、
前記異色発光層用フォトレジスト層が除去された部分の異色発光層を除去することにより異色発光層用フォトレジスト層を表面に有するパターン状の異色発光部を形成する工程と、
を有することを特徴とするエレクトロルミネッセント素子の製造方法。
IPC (3件)：
H05B33/10
, H05B33/12
, H05B33/14
H05B33/10
, H05B33/12 B
, H05B33/14 A
3K007AB04
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA01
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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