投影露光装置およびその方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-334599
公開番号（公開出願番号）：特開平7-074088
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年03月17日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】ウエハ等の被露光基板上のフォトレジストの表面形状を光学的手段によって検出し、露光単位毎に焦点を合せる領域を選択し、解像度の高い投影露光を実現する投影露光装置およびその方法を提供する。【構成】可干渉性光源11からの可干渉光を、大きい入射角でウエハ等の被露光基板4の表面に照射させて反射光と参照光を干渉させ、検出位置と共役な位置の干渉縞の位相の揺らぎから被露光基板4の表面形状を検出し、露光単位毎に前記検出された被露光基板4の表面形状データから所望の表面形状データを選択し、該選択された所望の表面形状データに基づいて被露光基板の露光単位の表面を縮小投影レンズ91の結像面に焦点合せ制御を行う。

請求項（抜粋）：

マスクに形成された回路パターンを被露光基板上に投影する投影光学系と、前記被露光基板を載置し、少なくともX、Y、Z軸方向に移動する移動ステ-ジと、前記被露光基板を傾けるチルト機構と、前記被露光基板上の領域を選択し、該選択された領域の表面形状を示す画像信号に基づいて被露光基板の高さおよび傾きを算出する検出手段と、該検出手段で算出された被露光基板の高さから前記移動ステージをZ軸方向に制御し、前記検出手段で算出された被露光基板の傾きから前記チルト機構を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/207

FI (3件)：

H01L 21/30 511 , H01L 21/30 526 A , H01L 21/30 541 F

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平3-040417
特開平3-040417
特開平4-215015

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