特許
J-GLOBAL ID:200903030737428593
ポリイミドの屈折率変化方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中本 宏 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-226549
公開番号(公開出願番号):特開平6-051146
出願日: 1992年08月04日
公開日(公表日): 1994年02月25日
要約:
【要約】【目的】 ポリイミドの屈折率を変化させる方法を提供する。【構成】 ポリイミドに電子線を照射するポリイミドの屈折率変化方法。ポリイミドとしてはフッ素化ポリイミドが好適である。厚さ10μmのポリイミドの屈折率値を上げることができた。【効果】 マスクや描画装置を用いて自由に光導波路が形成できる。また電子線のエネルギーを選択することにより屈折率分布も持たせることが可能であり、グレーデッドインデックス型の光導波路や平面レンズの形成も可能である。
請求項(抜粋):
ポリイミドに電子線を照射することを特徴とするポリイミドの屈折率変化方法。
IPC (5件):
G02B 6/12
, C08J 7/00 305
, G03F 7/004 521
, G03F 7/038 504
, C08G 73/10 NTF
引用特許:
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