特許
J-GLOBAL ID：200903030744044431
光走査装置および光走査装置におけるレーザビーム変調方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松岡 修平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-205207
公開番号（公開出願番号）：特開平9-033832
出願日： 1995年07月19日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：
【要約】【課題】 レーザダイオードから射出されたレーザビームをフォトダイオードで受光し、フォトダイオードに流れる電流に基づいてレーザビームの出力を制御する光走査装置において、高速なフィードバック制御を可能にすること。【解決手段】 所定の被走査面をレーザビームで走査露光するものであって、レーザビームを射出するレーザダイオード(16)と、前記レーザダイオードから射出された前記レーザビームの一部を受光するフォトダイオード(26)と、前記フォトダイオードの出力電流に基づいてレーザダイオードから出力される前記レーザビームの強度を調整する帰還制御手段と、前記レーザダイオードと前記フォトダイオードとの間に配置され、前記フォトダイオードの受光部における前記一部のレーザビームの光強度を調整する入射光強度手段(25)を設けた。
請求項（抜粋）：
所定の被走査面をレーザビームで走査露光するものであって、レーザビームを射出するレーザダイオードと、前記レーザダイオードから射出された前記レーザビームの一部を受光するフォトダイオードと、前記フォトダイオードの出力電流に基づいてレーザダイオードから出力される前記レーザビームの強度を調整する帰還制御手段と、前記レーザダイオードと前記フォトダイオードとの間に配置され、前記フォトダイオードの受光部に入射する前記一部のレーザビームの光強度を調整する入射光強度調整手段とを設けたことを特徴とする、光走査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 26/10 A
, B41J 3/00 D
