特許

J-GLOBAL ID：200903030831912539

放射線感受性組成物用酸無水物含有ポリマーの新規な製造法

発明者： ステファニー・ディロッカー ,  サンジェイ・マーリク ,  ビノード・デ ,  アショク・レディ
出願人/特許権者： アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
代理人 (3件)： 高木 千嘉 ,  結田 純次 ,  三輪 昭次
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-578435
公開番号（公開出願番号）：特表2005-520894
出願日： 2003年02月27日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：

本発明の合成法は次の工程:エチレン性不飽和酸無水物モノマー、少なくとも1種のエチレン性不飽和酸非無水物モノマー、フリーラジカル開始剤および式1【化1】(式中、R1、R2、R3およびR4は独立して水素およびC1〜C4直鎖状または分枝状アルキルからなる群より選択されるが、R1、R2、R3およびR4のうち少なくとも1つはHではない)の一般構造を有するアルキル置換THF溶媒を含有する反応混合物を用意し;その反応混合物を重合し;そして未反応のモノマー、アルキル置換THF溶媒、および低沸点の揮発性反応生成物を蒸留により除去することからなる。

請求項（抜粋）：

溶媒として式1

IPC (4件)：

C08F2/06 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  C08F230/08

FI (4件)：

C08F2/06 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  C08F230/08

Fターム (21件)：

4J011AA05 ,  4J011DA04 ,  4J011HA04 ,  4J011HB14 ,  4J011NA01 ,  4J100AK32P ,  4J100AL03R ,  4J100AL03S ,  4J100AL08S ,  4J100AP16Q ,  4J100BA72Q ,  4J100BA75S ,  4J100BC02S ,  4J100CA06 ,  4J100FA08 ,  4J100FA19 ,  4J100JA15 ,  4J100JA24 ,  4J100JA43 ,  4J100JA50 ,  4J100JA51

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭60-090205
  
• 放射線感受性コポリマー、そのフォトレジスト組成物およびその深UV二層システム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-525472   出願人：アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド