特許
J-GLOBAL ID:200903030837988200

ホスホリルコリン基を有するポリシロキサン及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): ▲高▼野 俊彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-340319
公開番号(公開出願番号):特開2004-175830
出願日: 2002年11月25日
公開日(公表日): 2004年06月24日
要約:
【課題】生体適合性材料や化粧料原料としての利用範囲が大きいポリシロキサンを得るために、簡便かつ高い汎用性をもってホスホリルコリン基を有するポリシロキサンを得られる方法を開発し、ホスホリルコリン基を有するポリシロキサンを提供すること。【解決手段】下記式(1)で示されるホスホリルコリン基を有するポリシロキサン(1)【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記式(1)で示されるホスホリルコリン基を有するポリシロキサン。 【化1】 (1)
IPC (1件):
C08G77/22
FI (1件):
C08G77/22
Fターム (5件):
4J035BA01 ,  4J035CA18K ,  4J035CA18M ,  4J035CA27M ,  4J035FB02
引用特許:
審査官引用 (8件)
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引用文献:
審査官引用 (1件)

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