特許
J-GLOBAL ID：200903030847214815

コバルト酸リチウム及びその製造方法並びに非水電解質ニ次電池

発明者：
根岸 克幸

根岸 克幸 について

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粟野 英和

粟野 英和 について

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大石 義英

大石 義英 について

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山崎 信幸

山崎 信幸 について


出願人/特許権者：
日本化学工業株式会社

日本化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-367952
公開番号（公開出願番号）：特開2004-196603
出願日： 2002年12月19日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
【課題】【解決手段】オキシ水酸化コバルトとリチウム化合物とから得られるコバルト酸リチウムであって、該コバルト酸リチウムの平均粒子径の範囲が10〜15μm、且つ残存する炭酸リチウムの量が0.1重量%以下であることを特徴とするコバルト酸リチウム及び安息角が50度以下で、且つタップ密度が1.3〜1.8g/cm3であるオキシ水酸化コバルトとリチウム化合物を混合した後、焼成することを特徴とするコバルト酸リチウムの製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
オキシ水酸化コバルトとリチウム化合物とから得られるコバルト酸リチウムであって、該コバルト酸リチウムの平均粒子径の範囲が10〜15μm、且つ残存する炭酸リチウムの量が0.1重量%以下であることを特徴とするコバルト酸リチウム。
IPC (4件)：
C01G51/00 ,  H01M4/02 ,  H01M4/58 ,  H01M10/40
FI (4件)：
C01G51/00 A ,  H01M4/02 C ,  H01M4/58 ,  H01M10/40 Z
Fターム (42件)：
4G048AA04 ,  4G048AB01 ,  4G048AC06 ,  4G048AD03 ,  4G048AE05 ,  5H029AJ01 ,  5H029AJ11 ,  5H029AK03 ,  5H029AL03 ,  5H029AL06 ,  5H029AL12 ,  5H029AM02 ,  5H029AM03 ,  5H029AM04 ,  5H029AM05 ,  5H029AM07 ,  5H029AM16 ,  5H029BJ03 ,  5H029CJ02 ,  5H029CJ08 ,  5H029EJ04 ,  5H029EJ12 ,  5H029HJ01 ,  5H029HJ05 ,  5H029HJ08 ,  5H050AA01 ,  5H050AA14 ,  5H050BA16 ,  5H050BA17 ,  5H050CA08 ,  5H050CB03 ,  5H050CB07 ,  5H050CB08 ,  5H050CB09 ,  5H050CB12 ,  5H050EA09 ,  5H050EA24 ,  5H050GA02 ,  5H050GA10 ,  5H050HA01 ,  5H050HA05 ,  5H050HA08
引用特許：
審査官引用 (6件)
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