特許
J-GLOBAL ID：200903030848592708
基板露光装置におけるマスク撓み補正機構
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西山 春之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-287833
公開番号（公開出願番号）：特開2001-109160
出願日： 1999年10月08日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
要約：
【要約】【課題】 基板露光装置におけるマスク撓み補正機構において、サイズが大型化したマスクの自重による撓みを簡単に補正することを可能とする。【解決手段】 ガラス基板3を上面に保持する露光チャック1と、上記ガラス基板3の上方からパターンを転写するマスク2を上面に保持するマスクホルダ4とを備え、上記マスク2とガラス基板3との間に所定の微少間隔をあけてマスク2上方から光を照射してガラス基板3にパターンを形成する基板露光装置において、上記マスクホルダ4は、マスク2の対向する両側二辺だけを保持するように対向する二つのホルダ部材5a,5bで構成し、このマスクホルダ4に保持されるマスク2の両側二辺の縁部を上方から押圧してマスク2の撓みを補正するマスク押え部7a,7bを設けたものである。これにより、サイズが大型化したマスク2の自重による撓みを簡単に補正することができる。
請求項（抜粋）：
ガラス基板を上面に保持する露光チャックと、上記ガラス基板の上方からパターンを転写するマスクを上面に保持するマスクホルダとを備え、上記マスクとガラス基板との間に所定の微少間隔をあけてマスク上方から光を照射してガラス基板にパターンを形成する基板露光装置において、上記マスクホルダは、マスクの対向する両側二辺だけを保持するように対向する二つのホルダ部材で構成し、このマスクホルダに保持されるマスクの両側二辺の縁部を上方から押圧してマスクの撓みを補正するマスク押え部を設けたことを特徴とするマスク撓み補正機構。
Fターム (7件)：
2H097BA02
, 2H097BA10
, 2H097DA20
, 2H097GA45
, 2H097LA10
, 2H097LA11
, 2H097LA17
