特許

J-GLOBAL ID：200903030867175522

基板処理システムのスケジュール作成方法及びそのプログラム

発明者： 椋田 修央 ,  河合 淳
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-041434
公開番号（公開出願番号）：特開2003-241818
出願日： 2002年02月19日
公開日（公表日）： 2003年08月29日
要約：

【要約】【課題】 処理を開始する前に予め工程計画に基づきスケジュールを作成することにより、待機時間を抑制して稼働率を向上する。【解決手段】 いずれかのロットについて最初の処理工程1-Aを配置した後、最初の処理工程1-Aを除いた次なる処理工程1-B,2-Aを配置したことを想定し、それらの前の処理工程の終了予定時刻E1,E2を予め求め、各ロットのうち終了予定時刻が最も早いロットに対する処理工程2-Aを次の処理工程として配置する。前の処理工程が早く終わるロットの処理工程を選択して配置することで、次の処理工程が終了するまでの時間を短縮できる。基板処理システムの基板処理装置を有効利用できるので、待機時間を抑制して稼働率を向上できる。

請求項（抜粋）：

基板に処理を施すための基板処理装置を複数個備えた基板処理システムによって複数のロットを処理するにあたり、複数の処理工程を含む工程計画に基づいて各々のロットを各基板処理装置で順次に処理するために各ロットの処理順序を決定する基板処理システムのスケジュール作成方法において、いずれかのロットについて最初の処理工程を配置した後、各ロットの次なる処理工程のうち、各々の前の処理工程における終了予定時刻が最も早いロットに対する処理工程を次の処理工程として配置することを特徴とする基板処理システムのスケジュール作成方法。

IPC (6件)：

G05B 19/418 ,  B08B 3/04 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 648

FI (6件)：

G05B 19/418 Z ,  B08B 3/04 B ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/304 648 H ,  H01L 21/30 562

Fターム (18件)：

2H088FA25 ,  2H088HA01 ,  3B201AA01 ,  3B201BB01 ,  3B201BB92 ,  3B201CB11 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  3B201CD43 ,  3C100AA01 ,  3C100BB02 ,  3C100BB03 ,  3C100BB14 ,  3C100EE06 ,  5F046JA27 ,  5F046KA10 ,  5F046LB10 ,  5F046MA19

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 生産管理システムおよび方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-324124   出願人：日本電信電話株式会社
• 半導体製造装置のスケジューリング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-303507   出願人：日鉄セミコンダクター株式会社
• 製品処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-126384   出願人：松下電器産業株式会社
• 特許第3758992号