特許

J-GLOBAL ID：200903030943931498

重ね合わせ誤差測定方法、重ね合わせ誤差測定装置、及び半導体デバイスの製造方法

発明者： 鈴木 高彦
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-398652
公開番号（公開出願番号）：特開2005-156487
出願日： 2003年11月28日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

【課題】パターンの特性に起因する測定誤差(MIS)を低減して、パターンの重ね合わせ誤差を精度良く測定する。【解決手段】実際の重ね合わせ誤差(真値)にパターンの特性に起因する測定誤差(MIS)を加えたものを期待値とする(真値+MIS=期待値)。期待値は、測定値から測定装置の特性に起因する測定誤差(TIS)を引いたものとなる(期待値=測定値-TIS)。画像信号処理回路40は、重ね合わせ誤差の測定値を算出し、MISが最小となるフォーカス位置を検出する処理と、測定値からTIS及び期待値を算出する処理とを行う。開口絞り切り替え機構29は、開口数(NA)の大きな開口絞り29aと、開口数の小さな開口絞り29bとを有し、受光系の開口数を変更する。受光系の開口数を変更することにより、TIS又はMISを低減して、パターンの特性に応じた重ね合わせ誤差の測定を行う。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

露光装置で形成したパターンの重ね合わせ誤差を測定する重ね合わせ誤差測定方法であって、 実際の重ね合わせ誤差(真値)にパターンの特性に起因する測定誤差(MIS)を加えたものを期待値とし、 MISが最小となるフォーカス位置を検出し、 MISが最小となるフォーカス位置で重ね合わせ誤差を測定して、測定値から期待値を算出することを特徴とする重ね合わせ誤差測定方法。

IPC (3件)：

G01B11/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/66

FI (3件)：

G01B11/00 C ,  H01L21/66 J ,  H01L21/30 502V

Fターム (33件)：

2F065AA17 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC19 ,  2F065FF10 ,  2F065FF41 ,  2F065GG03 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL01 ,  2F065LL05 ,  2F065LL30 ,  2F065NN20 ,  2F065PP12 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ42 ,  4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106DB07 ,  4M106DB12 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ27

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 薄膜段差間の中心位置測定装置及び重ね合わせ誤差測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-124061   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
• 重ね合わせ誤差測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-242679   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社