特許
J-GLOBAL ID：200903030982332399
両面研磨装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
綿貫 隆夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-202125
公開番号（公開出願番号）：特開2000-033559
出願日： 1998年07月16日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：
【要約】【課題】 上定盤の荷重をワークに均等にかけることが可能で、高精度の研磨ができること。【解決手段】 薄平板に透孔が設けられて成るキャリヤと、該キャリヤの透孔内に配された板状のワークを、該ワークに対して相対的に移動して研磨する上定盤14及び下定盤16と、前記キャリヤを自転しない円運動をさせ、前記透孔内で上定盤14と下定盤16との間に保持された前記ワ-クを旋回移動させるキャリヤ旋回運動機構と、上定盤14と下定盤16の両研磨面の平行度を高精度に保ってワークに均等に荷重をかけるべく上定盤14が保持されるよう、上下方向に平行な軸心を備え、下端が上定盤14の上面に固定され、上定盤14を吊持すると共に自転させるスピンドル90と、スピンドル90をベアリング92を介して回転可能に保持すると共に上下方向に往復動可能に設けられた昇降動本体94とを備える。
請求項（抜粋）：
薄平板に透孔が設けられて成るキャリヤと、該キャリヤの透孔内に配された板状のワークを、上下から挟むと共に該ワークに対して相対的に移動して研磨する上定盤及び下定盤と、前記キャリヤを、該キャリヤの面と平行な面内で自転しない円運動をさせ、前記透孔内で上定盤と下定盤との間に保持された前記ワ-クを旋回移動させるキャリヤ旋回運動機構とを備える両面研磨装置であって、前記上定盤と前記下定盤の両研磨面の平行度を高精度に保ってワークに均等に荷重をかけるべく上定盤が保持されるよう、前記キャリヤの面に直交する上下方向に平行な軸心を備え、下端が前記上定盤の上面に固定され、該上定盤を吊持すると共に前記軸心を中心に自転させる回転軸と、該回転軸を軸受を介して回転可能に保持すると共に前記上下方向に往復動可能に設けられた昇降動本体とを備えることを特徴とする両面研磨装置。
Fターム (11件)：
3C058AA07
, 3C058AA11
, 3C058AA14
, 3C058AA16
, 3C058AB01
, 3C058AB04
, 3C058AB06
, 3C058AB08
, 3C058CB01
, 3C058DA06
, 3C058DA18
