特許
J-GLOBAL ID：200903031081049740
薄膜磁気ヘッドの磁極形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松井 伸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-151555
公開番号（公開出願番号）：特開2000-339622
出願日： 1999年05月31日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：
【要約】【課題】 下地上に磁性膜を形成し、この磁性層表面をイオンミルにより選択的に堀り込み加工する際において発生するバリの除去方法を提供すること【解決手段】 基板2表面に下地層3,下部磁性層4及び非磁性層(アルミナ)9をこの順番でスパッタし、この非磁性層の上面にパターニングしたレジスト10を形成する。このレジスト10をマスクとして磁性層の途中までイオンミルで除去し(a図)、次いでレジストを除去する(b図)とともに非磁性層をマスクとしてイオンミルを行い、磁性層の露出部分を除去する(c図)。すると、レジスト除去により生じたバリ12は、2回目のイオンミルにて除去され、残った磁性層は、矩形状の磁極4となる。
請求項（抜粋）：
下地層,磁性層及び非磁性層をこの順に下から積層し、前記非磁性層の表面にレジストをパターン形成した後、第1イオンミル行程により前記レジストで被覆されずに露出した非磁性層を除去するとともに、その非磁性層が除去されることにより新たに露出した前記磁性層を途中まで除去し、次いで、前記レジストを除去し、その後、前記第1イオンミル行程にて除去せずに残って露出した前記磁性層を、第2イオンミル行程により前記絶縁性の下地層が露出するまで掘り込み加工して除去することで前記下地層上に前記磁性層からなる磁極を形成する薄膜磁気ヘッドの磁極形成方法。
Fターム (5件)：
5D033BA07
, 5D033BA12
, 5D033DA03
, 5D033DA07
, 5D033DA08
