特許
J-GLOBAL ID:200903031095351326
汚染された媒体の光触媒的処理システムおよび方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
福田 秀幸
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-510673
公開番号(公開出願番号):特表2001-515786
出願日: 1998年09月10日
公開日(公表日): 2001年09月25日
要約:
【要約】【解決手段】 空気、土壌または吸着剤を含む汚染された媒体を処理するシステムを提供する。この過程において、汚染物質は、水性相中で作動する光触媒過程を用いて媒体から除去される。このシステムは汚染物質を汚染された媒体から水流のような溶媒中に移送させるガススクラバー(204)のようなコンバータまたは吸着システムと、このコンバータと連結された光触媒スラリーを含む光触媒システム(218)とを備える。
請求項(抜粋):
汚染物質を汚染された媒体から溶媒に移すように構成されたコンバータと、 前記コンバータに接続された光触媒システムであって、前記溶媒中の前記汚染物質を、光触媒反応を起こすように操作可能な光触媒システムとを備える、汚染された媒体を処理するシステム。
IPC (7件):
B01D 53/86
, A61L 9/20
, B01D 53/34
, B09C 1/02
, B09C 1/08
, C02F 1/32 ZAB
, C02F 1/72
FI (6件):
A61L 9/20
, C02F 1/32 ZAB
, C02F 1/72
, B01D 53/36
, B01D 53/34 Z
, B09B 3/00 304 K
Fターム (46件):
4C080AA07
, 4C080AA10
, 4C080BB02
, 4C080CC12
, 4C080MM02
, 4C080MM05
, 4C080QQ11
, 4C080QQ17
, 4D002BA05
, 4D002BA09
, 4D002BA13
, 4D002CA01
, 4D002CA06
, 4D002DA70
, 4D002HA01
, 4D004AA41
, 4D004AC07
, 4D004CA12
, 4D004CA36
, 4D004CA43
, 4D004CC03
, 4D004CC09
, 4D037AA01
, 4D037AA11
, 4D037AA15
, 4D037BA18
, 4D037BA24
, 4D037CA03
, 4D037CA11
, 4D048AB03
, 4D048BA07X
, 4D048BA41X
, 4D048BB20
, 4D048CB03
, 4D048CB04
, 4D048CC21
, 4D048CD01
, 4D048CD02
, 4D048EA01
, 4D050AA01
, 4D050AA12
, 4D050BB01
, 4D050BC06
, 4D050BC09
, 4D050CA07
, 4D050CA09
引用特許:
審査官引用 (6件)
-
ガス,廃ガス,蒸気及びゾルの浄化方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-361827
出願人:フランツ・デイートリヒ・エステ, ローベルト・アールベルス, オルガ・デイートリヒ
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特公平5-069597
-
有機溶剤ガス回収方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-173157
出願人:富士写真フイルム株式会社
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