特許

J-GLOBAL ID：200903031095499455

感放射線性樹脂組成物

発明者： 永井 智樹 ,  後藤 健太郎
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (1件)： 和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-021773
公開番号（公開出願番号）：特開2004-219963
出願日： 2003年01月30日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：

【課題】活性放射線、例えばKrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザーあるいはF2エキシマレーザーに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、特にKrFエキシマレーザーに対するプロセスマージンに優れる。【解決手段】酸発生剤と、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、前記酸発生剤が下記式(1)および下記式(2)で表される酸発生剤より選ばれる少なくとも一つの酸発生剤と、スルホニルオキシイミドおよびジスルホニルジアゾメタンより選ばれる少なくとも一つの酸発生剤との混合酸発生剤である。【化1】【化2】【選択図】 無

請求項（抜粋）：

酸発生剤と、アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であって酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有樹脂とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、 前記酸発生剤が下記式(1)および下記式(2)で表される酸発生剤より選ばれる少なくとも一つの酸発生剤と、スルホニルオキシイミドおよびジスルホニルジアゾメタンより選ばれる少なくとも一つの酸発生剤との混合酸発生剤であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (2件)：

G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R

Fターム (17件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-250518   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-393019   出願人：富士写真フイルム株式会社